本發明涉及一種太陽能選擇性吸收膜及其制備方法,該吸收膜包括形成在基材上的介質層、形成在所述的介質層上的吸收層、形成在所述的吸收層上的減反層,所述的吸收層為金屬和金屬化合物的復合材料,所述的吸收層中金屬原子占該膜層總物質的摩爾比為0.3到0.9,所述的吸收層的厚度為10-60nm;所述的減反層的厚度為70-100nm。當太陽能選擇性吸收膜受到自然光照射后,一部分光穿過吸收層,被吸收;另一部分光穿過介質層,到達金屬基片或紅外反射層表面,被反射,并再次穿過介質層和吸收層。通過調整介質層的厚度,調整光的相位,使得光在吸收層中干涉最大,而在吸收層外干涉最小。
聲明:
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