本發明公開了一種基于氮化碳的土霉素殘留物清除劑的制備方法,具體為:首先,將MoS2、g?C3N4和去離子水混合,超聲處理;放入高壓釜中,進行水熱反應,得到MoS2/g?C3N4復合物;將MoS2/g?C3N4復合物分散于去離子水和甲醇的混合溶液中,攪拌,之后向溶液中加入氯金酸溶液,使用氙燈對其照射,并用氣泵進行鼓氣;洗滌,干燥,得到AuNPs/MoS2/g?C3N4三相復合材料,即為土霉素殘留物清除劑。利用納米金和MoS2雙重敏化的g?C3N4復合材料,能對抗生素殘留物進行清除,制備過程對設備要求低、反應條件溫和,合成工藝簡單易于實現。
聲明:
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