本發明涉及冷卻領域,公開了一種被動式輻射冷卻復合材料薄膜,其包括由下至上依次設置的傳導層和材質為聚二甲基硅氧烷的基底層,在所述基底層內嵌入一維周期性錐形微米金屬光柵陣列。被冷卻物體的熱輻射經傳導層和金屬光柵陣列被輻射冷卻薄膜的基底層吸收并同步將熱量經8?13μm的特定波段的“大氣窗口”發射出去,與此同時,外部環境(大氣、灰塵等)周圍大氣環境造成的再次熱輻射入射被輻射冷卻膜的金屬光柵陣列反射并阻斷,從而只允許被冷卻物體的熱輻射單向傳輸到外部宇宙空間,形成“單通道”輻射冷卻,起到輻射降溫的作用;本發明的被動式輻射冷卻復合材料薄膜可應用于電子設備、機械設備等無法采用主動式冷卻降溫手段的場合。
聲明:
“單通道夜間被動式輻射冷卻膜” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)