本發明公開了一種電子束加工銅?石墨烯復合納米圖形的方法,先在提供的襯底上旋涂一層環烷酸銅薄膜;利用電子束曝光技術對樣品進行曝光經顯影后得到預設的環烷酸銅納米圖形;然后對樣品進行退火處理得到銅?石墨烯復合材料的納米圖形,本發明解決了傳統微納加工無法制造具有極小特征尺寸復合材料納米結構圖形的不足,同時由于不需要進行金屬的沉積降低了生產成本。
聲明:
“電子束加工銅-石墨烯復合納米圖形的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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