本發明申請提供了一種鈦基復合材料在光催化降解霉菌毒素中的應用,屬于納米材料光催化技術領域。具體制備方法為:利用熱分解法制備Y3+、Yb3+和Tm3+摻雜的β?NaYF4上轉換材料;接著使用CTAB修飾NaYF4:Yb,Tm,得到NaYF4:Yb,Tm分散液,向所得分散液加入氨水溶液調節pH,并加入TDAA的異丙醇溶液進行反應,將反應液進行離心并洗滌,得到NaYF4:Yb,Tm@TiO2,真空干燥隨后退火處理得NaYF4:Yb,Tm@TiO2殼層光催化劑。該光催化劑應用于霉菌毒素的光催化降解中,本發明的光催化劑對霉菌毒素具有較強的光催化降解特性。
聲明:
“鈦基復合材料在光催化降解霉菌毒素中的應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)