本發明提供了一種高抗He等離子體輻照超細晶W?Y2O3復合材料及制備方法,所述高抗He等離子體輻照超細晶W?Y2O3復合材料由納米級超高溫陶瓷稀土Y2O3與彌散增強難熔金屬W基體組成,按質量百分比構成,所述超高溫陶瓷稀土Y2O3為0.1~1%,其余為難熔金屬W;制備過程為由化工原料經溶膠噴霧干燥、還原和低溫強化燒結制備而成,其平均晶粒尺寸低于1.2μm,在60?80eV、2.88×1022~2.3×1026m?2低能高通量He等離子體輻照下表面無納米絲化損傷形成。本發明的復合材料顯著提升了抗低能高通量He等離子體輻照性能。
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“高抗He等離子體輻照超細晶W-Y203復合材料及制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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