本實用新型涉及一種適合于X熒光多元素分析儀的密封膜片滲漏測量裝置。該裝置采用雙層膜片對探測腔體內部空間進行密封保護,并在內膜片與外膜片之間用安裝有用絕緣圈間隔開的二塊銅板,利用二極管的反向截止和水的導電性,來判斷外銅板與內銅板之間是否因接觸到礦漿而形成導通,進而判斷外膜片4的密封是否發生滲漏。一旦檢測到外膜片滲漏或線路連接故障,可通過繼電器發出報警信號,使儀器啟動保護措施。
聲明:
“適合于X熒光多元素分析儀的密封膜片滲漏測量裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)