本發明屬于礦井防治水技術領域,具體涉及一種淺埋近水平燒變巖含水層的帷幕注漿方法。本發明要解決現有帷幕注漿中存在的鉆探工程量大、鉆探費用高、鉆孔不能在燒變巖中連續鉆進、效果檢查孔可能有漏點、鉆場占地多等問題。提供的方法,主要包括下述步驟:(1)布置帷幕線;(2)在帷幕線上等間距布置一排垂直孔;(3)采用孔口封閉注漿工藝,按照鉆孔序次對燒變巖含水層進行注漿,(4)帷幕線上所有垂直孔完成鉆探和注漿后,布置1~N個近水平定向鉆孔,所述定向鉆孔的水平段布置1~N層。本發明具有下述優勢:鉆場占地少,鉆探工程量小,鉆探工程成本低,鉆場選擇多,帷幕檢查及補充注漿的效果好。
聲明:
“淺埋近水平燒變巖含水層的帷幕注漿方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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