本發明提供了一種反應熔體滲透制備高光潔度碳陶復合材料的方法,包括步驟如下:(1)將前驅體粉料和溶劑混合均勻,得到外涂層漿料;(2)將外涂層漿料涂刷在多孔C/C復合材料胚體表面,升溫至100?180℃保溫,固化得到含外涂層多孔C/C復合材料胚體;(3)在氮化硼坩堝中平鋪硅粉后,在硅粉上放置外涂層的多孔C/C復合材料胚體,在真空條件下升溫至1600?1800℃保溫,進行熔融滲硅處理,即得高光潔度碳陶復合材料。本發明的制備方法有效地提高了C/C復合材料在滲硅后碳陶表面的光潔度,解決了碳/碳滲硅后碳陶材料裝配性差的問題,避免了碳陶材料的二次精加工,降低了生產成本,適用于規?;可a。
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