本發明提供了一種超支化聚胺酯/鑭/蒙脫土三元納米復合材料的制備方法,該方法以超支化聚胺酯(HPAE)樹形分子為有機相,包覆稀土粒子鑭(LA),并與蒙脫土(MMT)發生插層復合而得。本發明的方法制備的超支化聚胺酯/鑭/蒙脫土三元納米復合材料,經TEM、TGA、DSC、UV-VIS和FT-IR,測試結果表明,以超支化分子保護的稀土粒子LA插入到蒙脫土層間,并均勻地以納米級分布;其穩定性好、微觀分布均勻、光學活性高,可應用于制備稀土永磁材料和熒光材料。
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“超支化聚胺酯/鑭/蒙脫土元納米復合材料及其制備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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