本發明涉及一種Cf/SiC復合材料表面光學涂層的制備方法,所述光學涂層是以SiC/Si為主相、且厚度達1mm以上的光學致密涂層,所述制備方法包括以下步驟:(a)通過流延成型工藝制備主相為C和SiC的多孔素坯膜;(b)將步驟(a)所得的多孔素坯膜置于Cf/SiC復合材料表面后在真空條件下于1450℃~1650℃反應滲硅,從而在所述Cf/SiC復合材料表面形成以SiC/Si為主相的陶瓷涂層。本發明首次提出了利用流延膜反應燒結工藝制備復合材料表面光學涂層的方法,所得到的SiC/Si光學涂層,可以顯著提高Cf/SiC復合材料表面的致密度。
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