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膜圖案及形成方法、電子設備和有源矩陣基板的制造方法

1084   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-18 15:10:02
本發明提供一種不需要對圍堰實施表面處理(疏液化處理),由此簡化了工序、提高了生產效率的膜圖案的形成方法、和由此獲得的膜圖案以及器件和電光學裝置等。該膜圖案的形成方法將功能液(X1)配置在基板(P)上來形成膜圖案。包括以下工序:在基板(P)上形成與膜圖案的形成區域對應的圍堰(B);在由圍堰劃分的區域(34)配置功能液(X1);和對功能液(X1)實施固化處理而形成膜圖案。在形成圍堰(B)的工序中,首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接著對其進行曝光、顯影,形成圖案,然后通過燒結,形成在側鏈上具有疏水基,并將硅氧烷結合作為骨架的材質的圍堰,作為功能液(X1),使用水系分散介質或含有溶劑的液狀體。
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