本發明涉及在基片上形成納米結構圖案的方法。所述方法包括:提供基片;用功能材料涂覆所述基片,以形成功能材料層;將至少一種A聚合物鏈和B聚合物鏈的嵌段共聚物涂覆在所述功能材料層上,以形成層;干燥所述嵌段共聚物,以形成有序的納米域;除去已干燥的嵌段共聚物的A聚合物鏈,以形成空隙;然后從A聚合物鏈已經被除去的地方除去所述功能材料。
聲明:
“納米結構圖案的制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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