本實用新型公開了一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設備,屬于高純鋁真空冶煉技術領域。該設備包括真空中頻熔煉爐、石墨坩堝、出鋁溜槽、旋轉溜槽和固定溜槽;所述真空中頻熔煉爐的筒狀爐體內放置石墨坩堝,石墨坩堝的上端設有坩堝上沿,坩堝上沿上開設豎直方向貫通的缺口形成流液通道,流液通道依次連接出鋁溜槽、真空擋板閥、旋轉溜槽和固定溜槽;鋁熔體澆注時,真空中頻熔煉爐爐體傾轉,石墨坩堝中的鋁熔體經流液通道流出,再經澆注組件直至結晶器完成無落差落鑄。本實用新型通過真空爐配套無落差出鋁溜槽的結構設計能夠控制熔煉及澆鑄過程熔體的穩定狀態,避免熔體落差及擾動等造成氣渣卷入,最終實現低氣低渣的高品質高純鋁產品制備。
聲明:
“真空爐用無落差暗流澆鑄的設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)