權利要求
1.一種二維碳片負載納米晶的復合材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1,配置溶液,將模板劑、含碳陰離子劑、金屬鹽溶解在溶劑中,攪拌使之充分溶解后獲得混合溶液;
S2,一鍋法,將所述混合溶液置于高壓反應釜中,在高溫條件下,溶液中的含碳組分轉化為二維碳片,溶液中的金屬離子和陰離子在二維碳片表面成核生長,反應結束后分離固體獲得前驅體;
S3,煅燒,將前驅體置于氣氛爐中,并向氣氛爐加入活性物質或通入活性氣體,在保護氣體氛圍下進行煅燒,獲得二維碳片負載納米晶的復合材料。
2.如權利要求1所述的二維碳片負載納米晶的復合材料的制備方法,其特征在于,所述步驟S1中:
所述模板劑采用表面活性劑,該表面活性劑選用陰離子型表面活性劑、陽離子型表面活性劑、非離子型表面活性劑中的一種;
所述含碳陰離子劑選用多碳酸或含多碳酸根的鹽類中的一種;
所述金屬鹽選用可溶性錫鹽、銅鹽、鈷鹽、鐵鹽、鎳鹽中的一種;
所述溶劑為含有水和/或乙醇的復合溶劑。
3.如權利要求2所述的二維碳片負載納米晶的復合材料的制備方法,其特征在于:
所述非離子型表面活性劑采用聚環氧乙烷-聚環氧丙烷-聚環氧乙烷三嵌段共聚物表面活性劑或脂肪醇聚氧乙烯醚;和/或
所述含碳陰離子劑選用檸檬酸、油酸、腐殖酸、枸櫞酸、檸檬酸鹽、油酸鹽、腐殖酸鹽、枸櫞酸鹽中的一種;和/或
所述金屬鹽選用鉬酸鈉、水合三氯化錫、氯化銅、水合硝酸鈷、水合三氯化鐵中的一種;和/或
所述復合溶劑選用異丙醇、正己烷、環己烷中的一種或多種,該復合溶劑中含有酸。
4.如權利要求1所述的二維碳片負載納米晶的復合材料的制備方法,其特征在于,所述步驟S1中,所述模板劑、含碳組分、金屬鹽的質量比為2:1:1~1:3:3,所述模板劑、含碳陰離子劑、金屬鹽的總質量與所述溶劑的體積比為1:1~1:20。
5.如權利要求1所述的二維碳片負載納米晶的復合材料的制備方法,其特征在于,所述步驟S2中,所述高溫條件為120~270℃,反應時間為20~1440min。
6.如權利要求5所述的二維碳片負載納米晶的復合材料的制備方法,其特征在于,
聲明:
“二維碳片負載納米晶的復合材料及其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)