本發明涉及石英石提純技術領域,具體而言,涉及一種石英砂的提純方法。
背景技術:
高純石英砂一般是指sio2含量高于99.9%的石英微粉,主要應用在ic的集成電路和石英玻璃等行業,其高等產品更被廣泛應用在大規模及超大規模集成電路、光纖、激光、航天、軍事等領域。石英砂的提純主要是除去其中少量或微量雜質,獲得高純石英砂?,F有技術主要采用常規磁選、浮選、酸浸等物理及化學手段對石英砂原料雜質礦相、表面元素雜質等進行去除,從而獲得一定純度的石英砂。但對于石英砂晶格雜質的去除難度極大,經過酸浸作用后已經達到該工藝的提純極致。若過度增大酸用量、升高溫度或延長時間都只能造成石英礦物的整體溶蝕,降低精礦產率,而且對晶格內的雜質元素并不能起到提純效果。因此,晶格雜質往往成為高純石英砂加工過程中難以突破的最終瓶頸。
目前去除晶格雜質的方法主要有氯化焙燒工藝,氯化焙燒又稱氯化脫氣,是指在一定條件下,在氯化劑作用下使礦物原料中的某些成分轉變為氣態或凝聚態的氯化物,從而使組分分離或者富集的過程,目前氯化焙燒所使用的氯化劑一般為cl2、hcl或兩者的混合,然而在1500℃以下,氯氣無法與金屬氧化物直接反應,需要加入碳質還原劑進行加碳氯化反應才能達到提純目的,同時還需去除剩余的碳,提純工藝復雜;若采用氯化氫作為氯化劑,難以去除特殊晶型的氧化鋁雜質。
鑒于此,特提出本發明。
技術實現要素:
本發明的目的在于提供一種石英砂的提純方法,采用四氯化硅為氯化劑,在高溫流化床中對石英砂雜質進行提純,提純效率高,環保壓力小,過程成本低,工藝簡單,可得到sio2重量含量大于99.9%的高純石英砂。
本發明是這樣實現的:
本發明提供一種石英砂的提純方法,對石英石礦石原料進行處理得到石英砂細粉,使用流化床反應器作為氯化反應器,以四氯化硅作為氯化劑在高溫流化床中對石英砂細粉進行高溫氯化處理,得到sio2重量含量大于99.9%的高純石英砂。
所述石英砂的提純方法,具體包括如下步驟:
a.水洗脫除石英砂礦石原料表面附著的污泥,再破碎成10~20mm小塊石英砂。
b.將小塊石英砂在1250~1450℃溫度條件下煅燒5~10h后,直接置于常溫冷水中進行快速冷卻至常溫,過濾去掉冷卻水,得到水淬后的小塊石英砂。
c.對水淬后的小塊石英砂進行烘烤,除去水分,使得小塊石英砂水分重量含量<0.5%,得到干燥后的小塊
聲明:
“石英砂的提純方法與流程” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)