合肥金星智控科技股份有限公司
宣傳

位置:中冶有色 >

有色技術頻道 >

> 失效分析技術

> 閃存器件制造方法

閃存器件制造方法

902   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 09:20:08
本發明提供一種閃存器件制造方法,通過將測量出的平坦化后的淺溝道隔離結構位于所述半導體襯底表面上方的臺階高度反饋到對所述半導體襯底上方用于形成字線多晶硅層等區域的淺溝槽隔離結構的回刻蝕工藝中,進而通過最合適的回刻蝕深度來保證后續形成的字線多晶硅層下方的氧化層的厚度以及淺溝槽隔離結構臺階高度的穩定性,從而避免因淺溝槽隔離結構臺階高度過低引起閃存產品的編程以及編程干擾失效或者因淺溝槽隔離結構臺階高度過高引起多晶硅殘留問題,提高閃存產品的可靠性和良率。
登錄解鎖全文
聲明:
“閃存器件制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
分享 0
         
舉報 0
收藏 0
反對 0
點贊 0
標簽:
失效分析
全國熱門有色金屬技術推薦
展開更多 +

 

中冶有色技術平臺

最新更新技術

報名參會
更多+

報告下載

赤泥綜合利用研究報告2025
推廣

熱門技術
更多+

衡水宏運壓濾機有限公司
宣傳
環磨科技控股(集團)有限公司
宣傳

發布

在線客服

公眾號

電話

頂部
咨詢電話:
010-88793500-807
專利人/作者信息登記
在线精品视频播放|无码 有码 国产18p|宅男精品一区在线观看|伊人色综合久久天天人手人婷|亚洲熟肥妇女BBXX