間接水冷靶座電弧蒸發(fā)源

本實(shí)用新型涉及多弧離子鍍膜機，具體是一種多弧離子鍍膜機的間接水冷靶座電弧蒸發(fā)源。包括引弧機構、靶塊、不銹鋼靶座、電弧屏蔽盤(pán)、電弧調節套、絕緣套、水管、電磁裝置，所述靶塊與所述不銹鋼靶座之間設置有紫銅板，所述紫銅板正面與所述靶塊緊密接觸，紫銅板外邊緣與不銹鋼靶座焊接為一體。本實(shí)用新型取消了靶塊與靶座之間的密封圈，利用紫銅傳熱效率高的特點(diǎn)，將紫銅板與不銹鋼靶座體焊接成一體形成靶塊的間接水冷結構，從根本上解決了由于密封圈老化失效或密封不嚴造成漏水和漏氣，嚴重影響鍍膜室內真空度和鍍膜環(huán)境，造成鍍膜質(zhì)量下降和檢查多個(gè)蒸發(fā)源是否漏氣漏水既繁瑣又不方便的技術(shù)難題，從而提高了蒸發(fā)源工作的穩定性和鍍膜質(zhì)量。