本發明公開了一種用于集成電路版圖失效區域定位的版圖關鍵區域提取方法,包括確定需要提取關鍵區域的版圖層次,對提取版圖層次按格點窗口劃分規則進行格點窗口劃分,提取每個格點窗口內圖形的線寬積值和間距積值,在歷史成熟穩定生產產品中提取被定義成關鍵區域的積值閾值,所述積值閾值包括線寬積值閾值和間距積值閾值,根據積值閾值判斷各格點窗口內圖形是否為關鍵區域,并將關鍵區域提取。本發明還公開了一種版圖關鍵區域提取系統。本發明能快速準確定位版圖關鍵區域,相比現有技術能將新產品版圖中的關鍵區域至少縮小為原先版圖的30%,節約后續失效分析70%的周期時間,大大提升制造者的經濟效益。
聲明:
“版圖關鍵區域提取方法及其提取系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)