本實用新型涉及光刻機技術領域,公開了電力半導體生產用浸沒式光刻機,包括操作臺,所述操作臺的上端左側固定安裝有機架,所述機架上固定安裝與檢測頭,所述機架的下側設有移動臺,所述操作臺的上端右側固定安裝有清洗箱。本實用新型將芯片置于鏤空清洗籃內,然后啟動超聲波發生器對芯片進行清理,然后啟動伺服電機帶動鏤空清洗籃上升,然后啟動暖風機,從而對芯片進行干燥,由于超聲波對芯片表面無損傷,對深孔、細縫和芯片隱蔽處亦可清洗干凈,清理效果好,提高芯片的合格率,較為實用,適合廣泛推廣和使用。
聲明:
“電力半導體生產用浸沒式光刻機” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)