本發明公開了一種不良地質結構面橫向貫穿水封洞庫主洞室的處理方法,在不良地質段位置處上下間隔設置有貫通該不良地質段的上連接洞(4)和下連接洞(2),通過上連接洞(4)和下連接洞(2)將不良地質段兩端的主洞室(1)連通,且所述上連接洞(4)的頂部高程與主洞室(1)的頂部高程一致,所述下連接洞(2)的底部高程與主洞室(1)的底部高程一致。由于上、下連接洞的斷面較小,相比主洞室的斷面來說,對圍巖的穩定性影響較小,在開挖過程中不易出現坍塌現象,從而大大降低了施工難度,并減少了施工成本。
聲明:
“不良地質結構面橫向貫穿水封洞庫主洞室的處理方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)