本發明公開了一種哈密瓜表面農藥殘留鑒別模型的構建方法,該方法包含制備用于對模型進行訓練的哈密瓜樣本,采集哈密瓜樣本的高光譜圖像,提取高光譜圖像的光譜數據并對其預處理,對蜜獾算法HBA采用自適應t分布突變方法進行突變處理;輸入預處理后的光譜數據,并將該光譜數據分為測試集和訓練集,利用突變后的tHBA算法對ELM分類模型進行優化處理,獲得最終鑒別模型tHBA?ELM;本發明還公開了一種哈密瓜表面農藥殘留鑒別方法,該方法利用上述構建方法構建的鑒別模型對待檢測哈密瓜樣本進行檢測并輸出鑒別結果,利用該鑒別模型不僅可對哈密瓜表面農藥殘留進行無損檢測,而且檢測效率高,同時,可對不同種類農藥進行精準鑒別。
聲明:
“哈密瓜表面農藥殘留鑒別方法及鑒別模型構建方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)