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測量半極性面Ⅲ族氮化物薄膜缺陷密度的方法及其應用

1109   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:58:40
本發明公開了一種測量半極性面III族氮化物薄膜缺陷密度的方法及其應用。所述的方法包括：采用X射線衍射儀測量生長在異質襯底的半極性面III族氮化物薄膜，從而獲得所述薄膜面內搖擺曲線半高寬極大值與薄膜的(10?10)晶面、(20?20)晶面、(30?30)晶面的搖擺曲線半高寬與峰位值；計算獲得其a型位錯的半高寬展寬、其半極性面的層錯間距LLcL對半高寬的加寬；計算獲得其c型位錯的半高寬展寬；以及，依據修正的位錯密度計算公式得出a型、c型位錯密度，獲得所述薄膜半極性面缺陷密度。本發明提供的方法能夠方便、快捷地獲得半極性面III族氮化物薄膜的位錯密度，利于進行半極性面III族氮化物薄膜生長技術的快速反饋調控，同時其具有廉價、無損等優點。
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聲明：
“測量半極性面Ⅲ族氮化物薄膜缺陷密度的方法及其應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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