本發明涉及氫能利用領域,旨在提供一種利用SKPFM觀測材料中局部組織氫擴散過程的裝置。該裝置包括:電化學充氫模塊、微區氫滲透模塊、原子力顯微鏡觀測模塊和計算機控制系統。本發明根據氫侵入材料引起材料局部接觸電勢差變化的原理,利用掃描開爾文探針力顯微鏡模塊觀測,通過該觀測行為為測算材料中局部組織氫擴散系數創造條件。本發明的裝置能夠通過觀測到微米甚至納米范圍的氫滲透情況,可以通過原位觀測電化學氫滲透的過程,獲得SKPFM觀測的圖像數據。該圖像數據可以進一步被用于計算出材料中的氫擴散系數,進而實現在不同溫度范圍氫擴散系數的測量。與傳統方法相比,本發明屬于無損測試,具有測試準確度高、操作簡便等優點。
聲明:
“利用SKPFM觀測材料中局部組織氫擴散過程的裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)