本發明公開了一種在鐵磁性薄膜制備過程中對原位表面磁光克爾效應進行測量的系統,包括分子束外延系統、具有特殊光路的磁場控制系統、表面磁光克爾效應測試系統和鐵磁性薄膜樣品;具有特殊光路的磁場控制系統與分子束外延系統生長室的襯底觀察窗口相對接,表面磁光克爾效應測量系統通過調試,能夠使入射激光通過磁場控制系統的特殊光路照射到固定在處于生長位置操作器上的鐵磁性薄膜樣品表面,鐵磁性薄膜樣品表面的反射激光能夠通過磁場控制系統的特殊光路反饋到信號接收器中。同時公開了一種在鐵磁性薄膜制備過程中對原位表面磁光克爾效應進行測量的方法。本發明具有簡單方便易操作的優點,可無損傷無影響地實現原位表面磁光克爾效應的測量。
聲明:
“對原位表面磁光克爾效應進行測量的系統及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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