本發明公開了一種金屬電導率渦流檢測方法,包括以下步驟:1)選擇電導率分別為σ1、σ2的兩個試件作為標準試件;2)綜合考慮以確定合適的激勵頻率f;3)將連接阻抗分析儀的探頭分別置于兩個標準試件的上方,測得阻抗:Z1=R1+X1,Z2=R2+X2;4)通過厚度為1mm的標準墊片分別測得探頭置于兩個標準試件上方提離為1mm時的阻抗:ZT1=RT1+XT1,ZT2=RT2+XT2,將其作為基準,與3)中的阻抗值差分處理,構造關鍵點A、B;5)由A、B兩點得出目標函數。6)對待檢金屬按以上步驟操作得到|ΔX/ΔR|并帶入5)中得出的目標函數以求電導率σ。本發明采用渦流技術檢測金屬電導率,對試件無損,檢測環境要求低,檢測精度高,檢測小電導率金屬材料分辨率高,并且檢測時所需參數少,同時克服了現有金屬電導率檢測儀需要校準的局限性。
聲明:
“金屬電導率渦流檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)