本發明公開了一種薄膜厚度微區成像的檢測裝置及方法,屬于薄膜厚度無損檢測的技術領域,所述檢測裝置包括:計算機,分別與計算機通信連接的光源發生器和面陣檢測器;所述光源發生器用于產生波長可調的單色光;照明及成像光路,所述照明及成像光路用于將單色光垂直或接近垂直方向入射到樣品表面的待測區域,并將反射光收集并成像到面陣檢測器上;檢測過程包括:檢測過程包括:通過計算機控制光源發生器進行波長掃描和面陣檢測器進行逐個波長反射圖像的采集,并獲得不同波長的反射光圖像,通過數據處理方法將反射光圖像轉變為薄膜厚度分布圖像,以達到通過獲得成像范圍內大量點的薄膜厚度,能應用于分析厚度不均勻薄膜,預期在材料腐蝕、光學鍍膜、半導體工業等領域具有良好應用前景的目的。
聲明:
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