本發明提供了一種光電耦合器抗輻照能力無損篩選方法及裝置,方法包括:獲取作為隨機子樣的光電耦合器輻照前的電流傳輸比和1/f噪聲幅值;獲取作為隨機子樣的光電耦合器經過輻照后的電流傳輸比;計算輻照前后的電流傳輸比變化量;對數據進行預處理,以噪聲幅值作為信息參數,以電流傳輸比變化量作為輻照性能參數,建立多元線性回歸方程,并計算線性回歸方程中的系數向量;基于系數向量,建立所述信息參數和輻照性能參數之間的無損篩選回歸預測方程;利用無損篩選回歸預測方程,預測單個光電耦合器件的抗輻照性能,對同批其他光電耦合器器件進行篩選。本發明能夠實現在對光電耦合器無損壞的前提下,進行對元器件準確、高效的抗輻照能力的測試篩選。
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