本實用新型涉及等離子化學氣相沉積技術領域,公開了壓力控制系統及應用了該壓力控制系統的等離子體沉積設備。其中,壓力控制系統包括:與真空腔體通過真空管道連接的真空泵,真空管道上設置有電控制閥門;用于測量真空腔體的真空度的真空計,真空計和電控制閥門通過可編程序控制器通信連接。本實用新型所提供的壓力控制系統能夠自發調節真空腔體內的壓力,使得氣壓保持在一定范圍內。
聲明:
“壓力控制系統和等離子體沉積設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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