本發明涉及光盤表面覆膜方法,在光盤上沉積耐酸堿類金剛石薄膜的方法,利用中低頻介質阻擋高壓放電,使用小分子碳氫氣體,在較低氣壓條件下,以光盤作為沉積基底,在光盤表面沉積超硬類金剛石薄膜。本發明利用介質阻擋放電等離子體沉積薄膜,具有其獨特的優勢:如放電方式簡單,能耗低,氣體流量低,可實現在絕緣介質上沉積。薄膜對于光驅工作讀寫激光波長在藍光和紅光均具有>90%以上透過性。對于鍍膜后的光盤進行讀寫測試,發現薄膜對于光盤正常工作不產生任何影響。本發明有效的提高光盤表面的化學穩定性和機械性能,鍍膜后的光盤具有很好的耐酸堿特性。
聲明:
“在光盤表面沉積耐酸堿類金剛石薄膜的裝置和方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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