本發明屬于電磁屏蔽實現技術領域,具體涉及一種內嵌式金屬網柵的電磁屏蔽光學窗制備方法。該方法包含:(1)通過物理和化學方法清洗光學窗表面;(2)采用電子束蒸發方法生長制備Y2O3薄膜;(3)熱處理鍍膜后的光學窗口,使薄膜表面產生隨機分布的網狀裂紋;(4)在開裂的薄膜表面沉積金屬薄膜;(5)采用等離子體大角度傾斜刻蝕方法,通過控制傾斜刻蝕時間,有效去除基底表面金屬層,僅保留裂紋內部嵌入的金屬材料。該方法不但適應平面光學窗,而且可以在曲面光學窗表面實現可見、或紅外電磁屏蔽效果,在遙感遙測、航天航空、移動通信等軍事和民用領域具有廣泛應用前景。
聲明:
“內嵌式金屬網柵的電磁屏蔽光學窗制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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