一種干法氟化鋁生產中的脫硅脫磷方法本發明屬于化工領域。本發明將螢石和硫酸在制酸爐中通過化學反應制取含有大量雜質的氟化氫氣體,在凈化塔中經過硫酸洗滌后,隨即進入膜分離器;所述的膜分離器比表面積大于180m2/g,膜材料的孔徑小于1μm和耐溫性在20℃-120℃之間,負壓1000-3000Pa,同時該膜材料具有耐氫氟酸腐蝕,獲得無水氟化氫氣體,最后將該氣體送入流化床與氫氧化鋁反應。經測氟化鋁產品中SiO2含量不大于0.30%,P2O5含量不大于0.04%。所脫除的雜質顆粒尺寸在200nm-500nm之間,其成份主要由氟,硅,磷,鐵,硫,氧等組成。本發明原理簡單,流程容易操作,而且工藝易于控制,能耗低,即使使用三級螢石礦生產的干法氟化鋁產品,其性能參數仍可滿足干法氟化鋁一級品的各項指標。
聲明:
“干法氟化鋁生產中的脫硅脫磷方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)