本實用新型提供了一種機臺腔體監控裝置,包括:溫度傳感器,用以測量腔體內半導體上覆蓋的液體層的溫度;圖形傳感器,用以測量腔體內半導體上覆蓋的液體層的形態。據此,采用本實用新型提供的機臺腔體的監控裝置,能夠直接監控清洗或濕法刻蝕化學反應處的實時溫度、實時反應物接觸情況(液體膜層在半導體上覆蓋的情況),從而能夠采集到對工藝影響的更直接的技術參數,提升了清洗或濕法刻蝕工藝的工藝精度,擴大了該工藝的適用半導體加工的技術節點范圍。
聲明:
“機臺腔體監控裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)