本發明公開一種薄膜測試技術領域的帶網狀支撐框架的低應力微拉伸試樣的制備方法,步驟:在玻璃基片上旋甩光刻膠作為犧牲層并前烘,在犧牲層上濺射金屬Ti層并做表面活化處理用作種子層,在種子層上進行甩膠、曝光、顯影,根據掩模版設計的微拉伸試樣層形狀,實現其光刻膠結構的圖形化;在表面活化的Ti層上電鍍Cu-TSV試樣層;在Cu-TSV鍍層上進行支撐框架層的電化學沉積;最后去除光刻膠圖形化層、Ti濺射層、犧牲層,得到獨立的帶有網狀支撐框架的懸空Cu-TSV微拉伸試樣。本發明制備的微拉伸試樣有效降低了薄膜應力,結構簡單,易于制備,成本低,實現了Cu-TSV薄膜的原位獨立拉伸,有利于微拉伸精準測試。
聲明:
“帶網狀支撐框架的低應力微拉伸試樣的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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