一種用于MOCVD系統中控制外延片溫度及均勻性的裝置,托盤上方沿徑向設置一組非接觸、發光補償的光學溫度計,反饋托盤上多個環狀區域內單個或多個外延片的溫度。溫度控制器以外延片溫度的統計平均值與外延工藝規定溫度的差異最小為目標,獨立控制托盤下方的若干加熱元件的功率輸出。每個環狀區域內的多個外延片,由下方一個或相鄰多個環狀排列、徑向覆蓋面積較小的加熱元件來對應加熱,在不同溫度的工藝條件下,能有效平衡外延片及托盤在徑向的熱量流失,實現對單個外延片和相鄰外延片之間溫度及均勻性的精確與穩定的控制。本發明還通過設置接觸式熱電耦溫度計來測量加熱器溫度,作為外延工藝規定溫度的參照點,同時監測加熱器是否正常工作。
聲明:
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