本實用新型涉及一種MOCVD設備及其中的進氣裝置,通過在進氣裝置的下表面預先進行表面處理,形成耐高溫及耐化學腐蝕的表面處理層,例如是與實際生產后的附著層的性質相類似的吸光涂層,或者熱處理層,或化學處理層,或結構處理層等,這些表面處理層的形成能夠提高光學測量環境和反應腔內溫場環境的穩定性,使得MOCVD設備在連續運行情況下,光學測量結果仍能保持較高的準確度和一致性,進而能夠實現MOCVD設備穩定的運行,保證爐次間的設備工藝穩定性,從而降低腔體環境改變對生產帶來的影響,提高生產的良品率,降低生產成本。
聲明:
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我是此專利(論文)的發明人(作者)