一種用于化學機械平坦化(CMP)系統的溫度控制系統,該CMP系統包含一線性拋光帶(102)、一可將基板(104)施加至該線性拋光帶上方的一制備位置上的承載器(108)。該溫度控制系統包含一平臺(110),具有多個區域。該溫度控制系統還包含一溫度傳感器(160),用來測定該線性拋光帶在該制備位置之后一位置的溫度。該溫度控制系統更包含一控制器(150),用來響應于由該溫度傳感器接收的輸出來調整溫度調整過的流體向該平臺的該多個區域的選定區域的流動。
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