描述了一種對光學基片涂敷減反射(AR)涂層的方法。該涂層的厚度和成分,可通過將對于與人的視覺系統靈敏度成角度相關和成波長相關的涂層的菲涅爾反射系數之積減至最小來確定,以將此涂敷制品感知的反射率減至最小。帶有化學惰性氣體如氬和氮的緊湊的反應室被抽真空并沖入化學惰性氣體,例如氬或氮。一或多個分子組成的先質通過等離子體增強的化學氣相沉積(PECVD)進行沉積,以形成減反射薄膜?;诒豢刂坪穸鹊暮酆衔锉∧さ膯螌訙p反射涂層以及有機、有機硅的和或無機多涂層被描述。也被提供的是使用偏振發光二極管、偏振光學濾光片和光電二極管的光學監測薄膜生長的方法。來自監測器的反饋被用于控制先質流量,以預定的減反射特性產生單涂層和多涂層。
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“用于減少光學基片反射的涂層、方法和設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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