本實用新型公開了一種清洗模塊,用于反應杯架的清洗,包括有清洗針組件;在所述清洗針組件下方設置有磁鐵組件;所述磁鐵組件包括有第一清洗磁鐵組、第二清洗磁鐵組和第三清洗磁鐵組,其中,所述第一、第二清洗磁鐵組的N與S磁極交替設置,所述第二清洗磁鐵組設置在與反應杯位下部對應的位置。利用磁鐵組件中的磁鐵將反應杯位中的磁珠免疫復合物吸附后,進行清洗;N與S磁極交替設置,使清洗更徹底;第二清洗磁鐵設置在底面(與反應杯位下部對應的位置),使磁珠免疫復合物吸附在反應杯位底部,便于后續化學發光檢測。
聲明:
“清洗模塊” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)