一種在鉬基片上沉積的釕薄膜及其制備方法,采用磁控濺射法在Mo襯底上制備了Ru薄膜,利用真空退火爐、EDS、XRD,臺階儀及納米劃痕儀等設備研究了不同退火溫度對Ru薄膜化學成分、相結構、殘余應力及膜基結合力的影響。結果表明,不同退火溫度處理下的Ru薄膜呈六方Ru結構,具有擇優取向。當退火溫度小于300℃時,退火有利于改善薄膜結晶質量,起到釋放殘余應力及提升膜基結合力的作用;隨退火溫度的進一步升高,殘余應力進一步釋放,此外,Ru薄膜中檢測到了氧,薄膜中氧化相的出現導致膜基結合力降低。
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