帶監控的真空鋁膜腐蝕裝置是用于半導體器件平面工藝中有關鋁及其合金膜的圖形腐蝕的關鍵設備。本裝置由真空腐蝕室、終點檢測器和訊號處理控制系統三大部分組成,與目前采用的濕法腐蝕工藝相比,具有腐蝕的全過程在低真空室中進行的特點,能及時排除腐蝕反應生成的氫氣泡。通過電化學傳感器進行精確的腐蝕終點檢測與控制,腐蝕分辨率可達2微米。該裝置從半導體分立元件到超大規模集成電路的鋁膜腐蝕工藝均適用。
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