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非制冷紅外焦平面探測器光學窗口的濕法腐蝕方法

1033   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:29:10
本發明公開了一種非制冷紅外焦平面探測器光學窗口的濕法腐蝕方法，包括：以等離子體化學氣相沉積法在硅片襯底兩面生長二氧化硅介質層；采用直流磁控濺射方法在介質層上依次沉積鉻、金形成金屬層；通過光刻法在襯底第一底面金屬層上形成一次圖形的光刻膠層；采用離子束刻蝕方法刻蝕光刻膠掩膜之外襯底第一底面的金屬層；腐蝕光刻膠掩膜之外襯底第一底面的二氧化硅層;去除光刻膠層；以剩余的介質層和金屬層作為掩膜保護層，腐蝕硅片形成腐蝕深度大于100μm的光學窗口腔體；以及去除掩膜保護層，得到圖形化的光學窗口。本發明通過以介質層和金屬層為掩膜保護層，在不增加成本、不改變濕法腐蝕液的前提下，達到了選擇性濕法腐蝕光學窗口的目的。
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“非制冷紅外焦平面探測器光學窗口的濕法腐蝕方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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