本發明屬于材料表面包覆技術領域,尤其涉及一種原子層沉積前驅體用量的監測系統及其方法與應用,包括:橢偏儀或X射線反射儀,用于質控體和基體以監控包覆層厚度;氣體流量計,用于實時控制氣體流量;微分電化學質譜,用于監控尾氣成分;所述橢偏儀與原子層沉積反應腔相鄰設置;所述質控體與所述基體設于所述原子層沉積反應腔內,進行包覆處理;所述氣體流量計設于所述原子層沉積反應腔內壁,所述微分電化學質譜與所述原子層沉積反應腔的尾氣系統相連。對反應程度進行實時檢測和反應結束狀態進行預判,保證了基體和前驅體充分接觸反應,實現對反應進程的準確把控,對前驅體用量的精確控制,解決了ALD包覆生產中前驅體用量大和利用率低的問題。
聲明:
“原子層沉積前驅體用量的監測系統及其方法與應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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