本發明公開了一種利用XRF熒光光譜儀測定二氧化硅含量的儀器分析方法,其特征在于:可分析的樣品類型多。對固體、液體、松散粉末、壓片、玻璃熔融片、濾紙等多種類型樣品都可直接進行分析。該方法用來確定樣品中已知元素的濃度。本方法采用二氧化硅為標準樣品,以氧化鋁為基體在XRF儀器上建立標準曲線,得出標準曲線的回歸方程,通過該回歸方程計算得到二氧化硅含量。本發明能夠實現快速檢測陶粒中二氧化硅含量,精密度高,處理方便,節省化學分析試劑等優點,操作便捷準確。
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