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消除栽培基質顆粒表面散射及水分影響的光譜檢測方法

881   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:11:25
本發明涉及一種消除栽培基質顆粒表面散射及水分影響的光譜檢測方法，包括如下步驟：S1、栽培基質顆?？焖俑稍锶コ乃?；S2、栽培基質顆?？焖俜鬯?；S3、利用目數≥50目的標準篩網對粉碎栽培基質顆粒進行篩選；S4、篩選后的栽培基質顆粒光譜數據采集；S5、采用理化實驗測定栽培基質顆粒待測化學成分理化值；S6、以3：1的比例將樣品集劃分為校正集和驗證集；S7、對校正集光譜數據進行預處理，并利用校正集建立栽培基質顆粒實測理化值與預處理光譜數據之間的關系模型，再利用驗證集數據檢驗模型的預測性能。該模型用于栽培基質顆?；瘜W成分的快速檢測，并能有效地消除栽培基質顆粒表面散射和水分對光譜預測結果的影響。
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聲明：
“消除栽培基質顆粒表面散射及水分影響的光譜檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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