化學機械研磨設備包括平臺以支撐研磨墊,及原位(in?situ)聲學發射監控系統,該原位聲學發射監控系統包括由該平臺支撐的聲學發射傳感器、經配置以延伸穿過研磨墊的至少一部分的波導,及用以接收來自聲學發射傳感器的信號的處理器。原位聲學發射監控系統經配置以檢測由基板的變形所造成且通過波導傳送的聲學事件,且處理器經配置以基于該信號來判定研磨終點。
聲明:
“用于化學機械研磨的聲學發射監控和終點” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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