本發明涉及氣體擴散器清洗領域,具體公開了一種適用于化學清洗的半自動化清洗線,其包括:清潔線體、高壓清洗室和自檢平臺;所述清潔線體包括清潔室,所述清潔室內依次設置有超聲脫脂槽、堿洗槽、酸蝕槽、酸洗槽和超聲熱水洗槽,且相鄰之間設置有水洗槽;所述高壓清洗室設在清潔線體的一側,所述高壓清洗室包括掛桿;所述自檢平臺設置在高壓清洗室的一側,所述自檢平臺包括自檢室,所述自檢室的一側設置有多個掛設架,本發明通過設置清潔線體、高壓清洗室和自檢平臺,能夠對氣體擴散器進行有效的清潔清理,并通過設置高壓清潔線體,對殘留的液體進一步的清潔沖洗,通過自檢室對清潔后的氣體擴散器進行檢測。
聲明:
“適用于化學清洗的半自動化清洗線” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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