本發明公開了一種輻照環境下高溫高壓水化學循環回路腐蝕測試裝置,包括高溫高壓循環單元,用以提供高溫高壓運行環境;工藝參數測量單元,與高溫高壓循環單元連接,以實現高溫高壓循環回路出水的水化學參數測量;其中,高溫高壓循環單元的反應大釜置于非放環境中,反應小釜置于由水屏蔽的γ場下,以開展輻照環境和非輻照環境中的腐蝕或水化學試驗;γ場為均勻劑量場,劑量率為1000~1500Gy/h。本發明的腐蝕測試裝置可同時應用于輻照環境和非輻照環境中,高溫高壓條件下的材料腐蝕特性研究,對比材料在不同工況下的均勻腐蝕和電化學腐蝕情況,模擬材料腐蝕過程的真實環境;同時還可研究不同的水化學條件對材料腐蝕的影響。
聲明:
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