一種測定一機器系統(2)(尤其是一浮動設備中的機器系統)內運行用料的化學和/或物理特性的方法,其中,用光照射所述運行用料并且對透射所述運行用料或者被所述運行用料反射的光進行光譜分析,根據本發明,所述運行用料受照時至少具有一選自一規定溫度范圍的溫度,優選正好具有一規定溫度。在此情況下,即使出現例如浮動設備所遇到的環境溫度變化,也能為所述光譜分析提供始終保持穩定的框架條件,從而使分析精度得到改善。
聲明:
“測定機器系統內運行用料的化學和/或物理特性的方法與裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)