本發明公開了一種CrB2涂層的制備方法。采用直流磁控濺射法,設計靶源磁場由位于靶面底部的環形磁鐵與直線型磁鐵組成,通過對靶源磁場的設計,使靶面不同位置具有不同的磁場強度,并對應的放置一系列樣品,在各樣品表面沉積CrB2涂層,然后對各涂層進行性能檢測,得到與所需CrB2涂層性能最接近的CrB2樣品涂層,該樣品在樣品架上的放置位置即為待沉積基體的放置位置,從而實現所需性能涂層的制備。
聲明:
“一種CrB2涂層的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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